蘇大王照奎AM: 質(zhì)子化胺硅烷，減少鈣鈦礦薄膜界面張力

在鈣鈦礦結(jié)晶過程中，界面應(yīng)變和晶格畸變是不可避免的問題。硅烷作為偶聯(lián)劑是一種流行的界面修飾層，可增強半導(dǎo)體器件中無機材料與有機材料之間的相容性。蘇州大學(xué)的王照奎等人采用TiO₂和鈣鈦礦層之間的質(zhì)子化胺硅烷偶聯(lián)劑（PASCA-Br）界面修飾層，通過形成晶格單元的結(jié)構(gòu)成分來錨定。


界面層上方的枕狀烷基溴化銨末端為鈣鈦礦提供了良好匹配的生長位點，從而減輕了界面應(yīng)變并導(dǎo)致晶格畸變；同時，其優(yōu)異的化學(xué)相容性對修復(fù)鈣鈦礦中未配位的Pb原子和鹵素空位具有理想的效果。PASCA-Br界面層還可以用作機械緩沖層，從而在彎曲時產(chǎn)生較少裂紋的鈣鈦礦膜。

該分子級柔性界面層為鈣鈦礦型太陽能電池及其柔性應(yīng)用提供了有前途的界面工程，在剛性和柔性基底分別獲得了超過21.6%和17.4%效率。

Zhang, C.‐C., Yuan, S., Lou, Y.‐H., Liu, Q.‐W., Li, M., Okada, H., Wang, Z.‐K., Perovskite Films with Reduced Interfacial Strains via a Molecular‐Level Flexible Inter for Photovoltaic Application. Adv. Mater. 2020, 2001479.